半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備的工作原理及工藝流程
今天小編為您介紹關(guān)于半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備的工作原理。
一、半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備概述
半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備主要應(yīng)用在半導(dǎo)體清洗行業(yè),該設(shè)備采用先進的反滲透技術(shù)和EDI技術(shù),保證設(shè)備的質(zhì)量和出水水質(zhì)。該設(shè)備整體采用先進的不銹鋼材質(zhì),抗腐蝕能力強,同時也不會出現(xiàn)生銹問題,質(zhì)量可靠,受到用戶的一致好評。
二、半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備工作原理
EDI裝置將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI工作原理如下圖所示。EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開,形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽電極。在直流電的推動下,通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng),成為濃水.EDI設(shè)備一般以反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電導(dǎo)率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達18MΩ.cm(25℃),但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置,EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。
三、半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備制備工藝
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點。(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點。(≥18MΩ.CM)(最新工藝)
3、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點。(≥17MΩ.CM)(最新工藝)
4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點。(≥15MΩ.CM)(最新工藝)
5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點。(≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
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